R-IBE 215
Die R-IBE 215 ist konzipiert um laterale Mikrostrukturen, die zuvor in konventioneller Weise mittels optischer Lithographie in Fotolack erzeugt wurden, in hartes optische Material (Glas, Quarz o.ä.) zu übertragen. Dies ist möglich, da das R-IBE Verfahren einen proportionalen Materialabtrag der lithographisch hergestellten Struktur erlaubt und dabei Fotolack und Substrat, trotz unterschiedlicher Materialeigenschaften, gleichermaßen abgetragen werden. Somit wird die Struktur vom dann vollständig weggeätzten Fotolack in das Substrat übertragen.
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