Ionenstrahl-Bearbeitung
Bereits 1991, als noch niemand von Nanotechnologie sprach, begann NTG mit der Entwicklung von Ionenstrahlbearbeitungsanlagen zur nanometergenauen Korrektur von Oberflächen.
IBF
IBF(Ion Beam Figuring)-Anlagen kommen immer dann zum Einsatz wenn die erforderliche Oberflächenqualität mit konventionellen Schleif-, bzw. Poliermaschinen nicht mehr erreichbar ist. Zu den Kunden zählen die bekanntesten Hersteller von Hochleistungsoptiken weltweit.
Während sich in der Vergangenheit das Einsatzgebiet überwiegend auf Optiken für Stepper-Objektive beschränkte die in der Halbleiterindustrie zu Lithographiezwecken eingesetzt werden, ist aktuell auch in der klassischen Optik ein Trend zu immer besseren Oberflächen zu erkennen.
(R)-IBE
Zunehmende Bedeutung haben in den letzten Jahren IBE-(Ion Beam Etching) und RIBE-(Reactive Ion Beam Etching)-Anlagen für Strukturübertragungen in harte Materialien (Glas,…) gewonnen. Auch hier verfügt NTG über ein ausgedehntes Anlagenspektrum.
Zusätzlich zu den Komplett-Anlagen bietet NTG ein umfangreiches Angebot an IBF- und IBE- Zubehör an. Dieses reicht von Werkstückhaltern bis zu Gittersystemen.
Vorteile der IBF-Technologie von NTG
- Berührungsloses Verfahren-keine Spuren auf der Oberfläche
- keine Induzierung von Spannungen in die Oberfläche
- nahezu beliebige Geometrie bearbeitbar
- großes Spektrum an prozessierbaren Materialien
- Anschaffungskosten vergleichbar mit MRF-Anlagen
- geringe Betriebskosten
- keine Schleifmittel erforderlich
- nahezu Verschleißteilfrei
- kaum Reinigungsaufwand (an Werkstück und Maschine)
- wartungsarm
- Oberflächengüten PV < λ /10 bis λ/20 erreichbar (je nach Erfordernis an Qualität & Prozessgeschwindigkeit)
- Oberflächengüten PV < λ/100, rms < 1nm erreichbar ohne Zusatzinvestitionen
- Know-How aus über 25 Jahren IBF-Bearbeitung
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